纳米真空镀膜的原理：

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法。

纳米真空电镀优点：

1.沉积材料广泛：可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属，通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层，而且可以根据需要设计涂层体系.

2.节约金属材料：由于真空涂层的附着力、致密度、硬度、耐腐蚀性能等相当优良，沉积的镀层可以远远小于常规湿法电镀镀层，达到节约的目的.

3.无环境污染：由于所有镀层材料都是在真空环境下通过等离子体沉积在工件表面，没有溶液污染，所以对环境的危害相当小。

示图：广西贵港市奥柏尔光电技术有限公司电镀车间

纳米真空镀膜范围

光学   真空镀膜首先应用于光学领域，二战中德国人首先采用真空蒸发镀膜法镀制了大量的光学镜片应用于军事望远和瞄准镜，并一直发展到高透过滤、高反射率、分光过滤等现代光学玻璃镀膜应用；

示图：奥柏尔反光杯

2、机械   在机械制造业领域当中的真空镀膜技术，刀具镀层便是一种广泛的典型应用，刀具镀层以TiC、TiN及其复合镀层为主，普通的刀具、钻头、丝锥等工具经由TiN镀膜后，可提高生产率与切削的速度，也可延长工具使用寿命。

示图：电镀刀具

真空电镀应用范围较广，以上列举的只是部分范围，像其他数码产品，电器，卫浴，医疗等塑料或金属件等等也能真空电镀。